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電荷ストリッピング機構を用いたイオン注入システムにおける金属汚染制御のための装置および方法[ja]
被引：0
申请号：
JP20220545121
申请日：
2021-02-08
公开(公告)号：
JP2023514089A
公开(公告)日：
2023-04-05
发明(设计)人：
申请人：
申请人地址：
IPC主分类号：
H01J37/317
IPC分类号：
H01J37/147
H01J37/248
代理机构：
代理人：
法律状态：
国省代码：
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