学术探索
学术期刊
学术作者
新闻热点
数据分析
智能评审
水素ガス生成装置[ja]
被引:0
申请号
:
JP20210167076
申请日
:
2021-10-11
公开(公告)号
:
JP7195662B2
公开(公告)日
:
2022-12-26
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
C25B9/00
IPC分类号
:
C25B1/04
C25B9/15
C25B15/00
C25B15/023
C25B15/08
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
引用
下载
收藏
法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
水素ガス生成装置[ja]
[P].
TANAHASHI SEIJI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TANAH PROCESS CO LTD
TANAHASHI SEIJI
;
KOJIMA TAMAO
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TANAH PROCESS CO LTD
KOJIMA TAMAO
;
WAKAI YOSHIMASA
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TANAH PROCESS CO LTD
WAKAI YOSHIMASA
;
TANAHASHI MASAKAZU
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TANAH PROCESS CO LTD
TANAHASHI MASAKAZU
.
日本专利
:JP2022009018A
,2022-01-14
[2]
水素ガス生成装置[ja]
[P].
日本专利
:JP2020517577A
,2020-06-18
[3]
水素ガス生成装置[ja]
[P].
日本专利
:JP5900688B1
,2016-04-06
[4]
水素ガス生成装置[ja]
[P].
日本专利
:JP6969827B2
,2021-11-24
[5]
水素水・水素ガス生成装置[ja]
[P].
日本专利
:JP6571385B2
,2019-09-04
[6]
水素ガス生成装置及び水素ガス生成方法[ja]
[P].
日本专利
:JP5654371B2
,2015-01-14
[7]
水素含有ガス生成装置[ja]
[P].
日本专利
:JP6521832B2
,2019-05-29
[8]
水素含有ガス生成装置[ja]
[P].
日本专利
:JP6523133B2
,2019-05-29
[9]
酸水素ガス生成装置[ja]
[P].
日本专利
:JP3246942U
,2024-06-06
[10]
水素含有ガス生成装置[ja]
[P].
日本专利
:JP5643707B2
,2014-12-17
←
1
2
3
4
5
→