光触媒活性薄膜[ja]

被引：0

申请号：

JP20060513741

申请日：

2005-05-20

公开(公告)号：

JPWO2005113142A1

公开(公告)日：

2008-03-27

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

B01J35/02

IPC分类号：

B01D53/86 B01D53/88 B01J31/02 B01J35/00 B01J37/03 C09D185/00 G03F7/004

代理机构：

代理人：

法律状态：

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日

法律状态

法律状态信息

共 50 条

[1]

光触媒活性評価方法及び光触媒活性評価装置[ja] [P].

日本专利 :JPWO2006070554A1 ,2008-06-12

[2]

光触媒活性積層膜[ja] [P].

日本专利 :JPWO2004071762A1 ,2006-06-01

[3]

光触媒組成物、光触媒活性向上剤及び光触媒活性向上方法[ja] [P].

日本专利 :JP6408404B2 ,2018-10-17

[4]

光触媒活性の評価方法[ja] [P].

日本专利 :JP6993787B2 ,2022-01-14

[5]

高活性光触媒[ja] [P].

日本专利 :JPWO2002053501A1 ,2004-04-30

[6]

光触媒活性化装置及び光触媒空気浄化装置[ja] [P].

日本专利 :JP6737432B2 ,2020-08-12

[7]

ＧａＮ光触媒[ja] [P].

日本专利 :JPWO2005089942A1 ,2007-08-09

[8]

光触媒塗布液[ja] [P].

KATO YOSHIKI ;

SHIBA NAOKI ;

KAWASE NORITAKA ;

TSUTSUMINO TOMOYA ;

ATSUMI TATSUFUMI .

日本专利 :JP2024089330A ,2024-07-03

[9]

光触媒材及び光触媒塗料組成物[ja] [P].

日本专利 :JP6283922B1 ,2018-02-28

[10]

光触媒薄膜、光触媒薄膜の形成方法及び光触媒薄膜被覆製品[ja] [P].

日本专利 :JPWO2008096866A1 ,2010-05-27

← 1 2 3 4 5 →