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パターン薄膜形成方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20110527678
申请日
:
2010-08-17
公开(公告)号
:
JPWO2011021622A1
公开(公告)日
:
2013-01-24
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
C23C14/04
IPC分类号
:
H01L51/50
H05B33/10
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
パターン形成方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2025164851A
,2025-10-30
[2]
パターン形成方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2024530585A
,2024-08-23
[3]
パターン形成方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2016043200A1
,2017-07-06
[4]
パターン形成方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2015146524A1
,2017-04-13
[5]
パターン形成方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2025168373A
,2025-11-07
[6]
パターン形成方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2016043198A1
,2017-07-06
[7]
微細パターン形成方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2002073316A1
,2004-07-02
[8]
微細パターン形成方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2003007080A1
,2004-11-04
[9]
微細パターン形成方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2003036390A1
,2005-02-17
[10]
パターン形成用組成物及びパターン形成方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2016159329A1
,2018-02-01
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