微粒子作製方法及びそれを用いて作製された半導体微粒子[ja]

被引:0
申请号
JP20090505094
申请日
2008-01-28
公开(公告)号
JPWO2008114533A1
公开(公告)日
2010-07-01
发明(设计)人
申请人
申请人地址
IPC主分类号
B01J2/04
IPC分类号
B01J19/00 C01B33/02
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
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共 50 条
[1]
微粒子作製装置[ja] [P]. 
日本专利 :JP5933234B2 ,2016-06-08
[4]
[5]
[6]
微粒子の製造方法及び微粒子[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2019009335A1 ,2020-07-02
[7]
微粒子製造装置及び微粒子製造方法[ja] [P]. 
MARUYAMA DAIKI ;
KOISHIZAKI TSUYOSHI ;
NAGAI HISAO .
日本专利 :JP2023172646A ,2023-12-06
[8]
微粒子の製造方法及びその微粒子[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2009038008A1 ,2011-01-06
[9]
微粒子製造装置及び微粒子製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP6551851B2 ,2019-07-31
[10]
微粒子製造装置及び微粒子製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP6590203B2 ,2019-10-16