シリカ系粒子分散液およびその製造方法[ja]

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申请号
JP20200551125
申请日
2019-10-04
公开(公告)号
JP7313373B2
公开(公告)日
2023-07-24
发明(设计)人
申请人
申请人地址
IPC主分类号
C01B33/149
IPC分类号
C01B33/143 C01B33/193 C09G1/02 C09K3/14
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
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共 50 条
[1]
シリカ系粒子分散液およびその製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2020075654A1 ,2021-09-16
[2]
シリカ系粒子分散液およびその製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP7436268B2 ,2024-02-21
[3]
シリカ系粒子分散液およびその製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP7591376B2 ,2024-11-28
[4]
シリカ系粒子分散液及びその製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP6933976B2 ,2021-09-08
[5]
研磨用シリカ系粒子分散液およびその製造方法[ja] [P]. 
MUKAI TATSUYA ;
NAKAYAMA KAZUHIRO .
日本专利 :JP2024168713A ,2024-12-05
[6]
研磨用シリカ系粒子分散液およびその製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP2025138269A ,2025-09-25
[7]
シリカ粒子分散液及びその製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP7054628B2 ,2022-04-14
[8]
シリカ粒子分散液及びその製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP6255471B1 ,2017-12-27
[9]
シリカ粒子分散液及びその製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP7007181B2 ,2022-02-10
[10]
シリコン系粒子分散塗液およびその製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP6139117B2 ,2017-05-31