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測定用基材及びその製造方法、並びに発光分光分析装置及び発光分光分析方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20190099115
申请日
:
2019-05-28
公开(公告)号
:
JP7280110B2
公开(公告)日
:
2023-05-23
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
G01N21/63
IPC分类号
:
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
分光装置及び分光方法並びに分析装置[ja]
[P].
日本专利
:JP6055006B2
,2016-12-27
[2]
発光分析装置及び発光分析方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7335519B2
,2023-08-30
[3]
分光分析装置及び分光分析方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6981817B2
,2021-12-17
[4]
分光分析方法及び分光分析装置[ja]
[P].
日本专利
:JP7285716B2
,2023-06-02
[5]
分光分析方法及び分光分析装置[ja]
[P].
日本专利
:JP7189845B2
,2022-12-14
[6]
分光分析装置及び分光分析方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7682169B2
,2025-05-23
[7]
発光分光分析装置[ja]
[P].
日本专利
:JP6897763B2
,2021-07-07
[8]
分光分析方法及び分光分析装置[ja]
[P].
日本专利
:JP5947709B2
,2016-07-06
[9]
分光分析装置及び分光分析方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7206162B2
,2023-01-17
[10]
分光分析装置及び分光分析方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7172959B2
,2022-11-16
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