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光学活性含フッ素アミン化合物の製造方法並びに光学活性含フッ素アミン化合物[ja]
被引:0
申请号
:
JP20120161056
申请日
:
2012-07-20
公开(公告)号
:
JP5902575B2
公开(公告)日
:
2016-04-13
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
C07B53/00
IPC分类号
:
C07C209/60
C07C211/17
C07C231/16
C07C233/66
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
光学活性含フッ素アミン化合物及びその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6426015B2
,2018-11-21
[2]
含フッ素アミン化合物の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2002026693A1
,2004-02-26
[3]
含フッ素ジアミン化合物の製造方法[ja]
[P].
YAJIMA TOMOKO
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
UNIV OCHANOMIZU
UNIV OCHANOMIZU
YAJIMA TOMOKO
;
KAMBARA TADASHI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
UNIV OCHANOMIZU
UNIV OCHANOMIZU
KAMBARA TADASHI
;
MIYAUCHI SAKURA
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
UNIV OCHANOMIZU
UNIV OCHANOMIZU
MIYAUCHI SAKURA
.
日本专利
:JP2024150858A
,2024-10-24
[4]
光学活性アミン化合物の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2005058805A1
,2007-07-12
[5]
光学活性アミン化合物の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7659381B2
,2025-04-09
[6]
光学活性アミン化合物の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6173702B2
,2017-08-02
[7]
光学活性アミン化合物の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP5854213B2
,2016-02-09
[8]
含フッ素アルキン化合物及び含フッ素アルキン化合物の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6885347B2
,2021-06-16
[9]
光学活性3−アミノ含窒素化合物の製造法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2008013130A1
,2009-12-17
[10]
含フッ素スルホンアミド化合物の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2022141492A
,2022-09-29
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