基板処理方法、基板処理装置、及び、成膜装置[ja]

被引:0
申请号
JP20170249861
申请日
2017-12-26
公开(公告)号
JP6556822B2
公开(公告)日
2019-08-07
发明(设计)人
申请人
申请人地址
IPC主分类号
H01L21/304
IPC分类号
C23C14/02 H01L21/302 H01L21/3065
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
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共 50 条
[1]
基板処理装置及び成膜装置[ja] [P]. 
日本专利 :JP5780062B2 ,2015-09-16
[2]
基板処理装置及び成膜装置[ja] [P]. 
日本专利 :JP5765154B2 ,2015-08-19
[3]
基板処理装置及び成膜装置[ja] [P]. 
HOSHINO TAKAO .
日本专利 :JP2024091221A ,2024-07-04
[4]
基板処理装置及び成膜装置[ja] [P]. 
日本专利 :JP6465948B1 ,2019-02-06
[5]
成膜装置及び基板処理装置[ja] [P]. 
日本专利 :JP5630393B2 ,2014-11-26
[6]
成膜装置及び基板処理装置[ja] [P]. 
日本专利 :JP5712879B2 ,2015-05-07
[7]
成膜装置及び基板処理装置[ja] [P]. 
日本专利 :JP5712889B2 ,2015-05-07
[8]
成膜装置、基板処理装置及び成膜方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP5939147B2 ,2016-06-22
[9]
成膜装置、基板処理装置及び成膜方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP6011417B2 ,2016-10-19
[10]
基板ホルダ、基板処理装置及び成膜装置[ja] [P]. 
日本专利 :JP7041702B2 ,2022-03-24