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照射装置による治療用照射をコントロールするための方法および装置[ja]
被引:0
申请号
:
JP20160552547
申请日
:
2015-02-13
公开(公告)号
:
JP2017512083A
公开(公告)日
:
2017-05-18
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
A61N5/10
IPC分类号
:
G01T1/161
G21K5/04
H05H13/04
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
照射装置による治療用照射をコントロールするための方法および装置[ja]
[P].
日本专利
:JP6580056B2
,2019-09-25
[2]
流体を処理するための照射反応器のための照射装置および照射反応器[ja]
[P].
日本专利
:JP2020537592A
,2020-12-24
[3]
流体を処理するための照射反応器のための照射装置および照射反応器[ja]
[P].
日本专利
:JP7317814B2
,2023-07-31
[4]
照射装置および照射方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6523561B1
,2019-06-05
[5]
照射装置および照射方法[ja]
[P].
MANABE YOSHIO
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
UNIV OSAKA
UNIV OSAKA
MANABE YOSHIO
;
论文数:
引用数:
h-index:
机构:
YAMAMOTO KAZUHISA
;
FUJI HIROSHI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
UNIV OSAKA
UNIV OSAKA
FUJI HIROSHI
.
日本专利
:JP2024173748A
,2024-12-12
[6]
照射装置および照射方法[ja]
[P].
MANABE YOSHIO
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
UNIV OSAKA
UNIV OSAKA
MANABE YOSHIO
;
论文数:
引用数:
h-index:
机构:
YAMAMOTO KAZUHISA
;
FUJI HIROSHI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
UNIV OSAKA
UNIV OSAKA
FUJI HIROSHI
.
日本专利
:JP2024175014A
,2024-12-17
[7]
照射装置および照射方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6773382B2
,2020-10-21
[8]
照射装置および照射方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2015535391A
,2015-12-10
[9]
照射装置および照射方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2019053890A1
,2019-11-07
[10]
標的体積に線量を蓄積する照射装置および照射方法[ja]
[P].
日本专利
:JP5666628B2
,2015-02-12
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