高純度ジフェニルカーボネートの工業的製造方法[ja]

被引:0
申请号
JP20060531945
申请日
2005-08-24
公开(公告)号
JPWO2006022294A1
公开(公告)日
2008-05-08
发明(设计)人
申请人
申请人地址
IPC主分类号
C07C68/06
IPC分类号
B01D3/16 B01D3/22 C07C69/96
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
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共 50 条
[1]
高純度ジフェニルカーボネートの工業的製造法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2006025424A1 ,2008-05-08
[2]
高純度ジアリールカーボネートの工業的製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2006025478A1 ,2008-05-08
[3]
高純度ジアリールカーボネートの工業的製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2006043491A1 ,2008-05-22
[4]
高純度ジアリールカーボネートの工業的製造法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2007069529A1 ,2009-05-21
[5]
高純度ジアリールカーボネートの製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2006041075A1 ,2008-05-15
[7]
高純度ジオールの工業的製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2007080805A1 ,2009-06-11
[8]
[9]
芳香族カーボネートの工業的製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2006035642A1 ,2008-05-15
[10]
芳香族カーボネートの工業的製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2006001257A1 ,2008-04-17