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高純度ジフェニルカーボネートの工業的製造方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20060531945
申请日
:
2005-08-24
公开(公告)号
:
JPWO2006022294A1
公开(公告)日
:
2008-05-08
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
C07C68/06
IPC分类号
:
B01D3/16
B01D3/22
C07C69/96
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
高純度ジフェニルカーボネートの工業的製造法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2006025424A1
,2008-05-08
[2]
高純度ジアリールカーボネートの工業的製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2006025478A1
,2008-05-08
[3]
高純度ジアリールカーボネートの工業的製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2006043491A1
,2008-05-22
[4]
高純度ジアリールカーボネートの工業的製造法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2007069529A1
,2009-05-21
[5]
高純度ジアリールカーボネートの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2006041075A1
,2008-05-15
[6]
高純度ジフェニルカーボネートを工業的規模で製造する方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2007072705A1
,2009-05-28
[7]
高純度ジオールの工業的製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2007080805A1
,2009-06-11
[8]
高純度フルオロエチレンカーボネートの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2020515619A
,2020-05-28
[9]
芳香族カーボネートの工業的製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2006035642A1
,2008-05-15
[10]
芳香族カーボネートの工業的製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2006001257A1
,2008-04-17
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