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EP4アンタゴニストの製造方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20220126736
申请日
:
2022-08-09
公开(公告)号
:
JP7205657B1
公开(公告)日
:
2023-01-17
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
C07D311/96
IPC分类号
:
C07C235/46
C07D311/58
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
新規なEP4アゴニスト[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2011111714A1
,2013-06-27
[2]
EP4受容体アンタゴニストの多形体、その調製方法および用途[ja]
[P].
日本专利
:JP2023513176A
,2023-03-30
[3]
プロスタグランジンEP4受容体アンタゴニスト化合物[ja]
[P].
日本专利
:JP2022551470A
,2022-12-09
[4]
プロスタグランジンEP4受容体アンタゴニスト化合物[ja]
[P].
日本专利
:JP7558266B2
,2024-09-30
[5]
EP2アンタゴニスト化合物[ja]
[P].
日本专利
:JP2024524986A
,2024-07-09
[6]
EP2アンタゴニスト化合物[ja]
[P].
日本专利
:JP2024524981A
,2024-07-09
[7]
PPARデルタアゴニストの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2023550643A
,2023-12-04
[8]
治療用化合物としての新規のEP4アゴニスト[ja]
[P].
日本专利
:JP2017518317A
,2017-07-06
[9]
治療用化合物としての新規のEP4アゴニスト[ja]
[P].
日本专利
:JP6588475B2
,2019-10-09
[10]
P2X3アンタゴニストの製造[ja]
[P].
日本专利
:JP2025527691A
,2025-08-22
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