プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法[ja]

被引：0

申请号：

JP20190568117

申请日：

2019-06-20

公开(公告)号：

JPWO2020012907A1

公开(公告)日：

2020-07-27

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

H01L21/3065

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共 50 条

[1]

プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2019138654A1 ,2020-01-16

[2]

プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置[ja] [P].

NAGAUMI KOICHI ;

OSHITA TATSURO ;

NAGASEKI KAZUYA ;

HIMORI SHINJI .

日本专利 :JP2022087334A ,2022-06-09

[3]

プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法[ja] [P].

日本专利 :JP7075540B1 ,2022-05-25

[4]

プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置[ja] [P].

日本专利 :JP2023067921A ,2023-05-16

[5]

プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法[ja] [P].

HIGUCHI RYUTA ;

SAITO TAKENAO ;

NAKAJIMA TOSHIKI ;

KITAMURA YUJI .

日本专利 :JP2025114638A ,2025-08-05

[6]

プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置[ja] [P].

日本专利 :JP2023054031A ,2023-04-13

[7]

プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法[ja] [P].

KOSHIMIZU CHISHIO .

日本专利 :JP2025098263A ,2025-07-01

[8]

プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置[ja] [P].

日本专利 :JP2025010857A ,2025-01-23

[9]

プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法[ja] [P].

日本专利 :JP5689209B1 ,2015-03-25

[10]

プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法[ja] [P].

日本专利 :JP2025136978A ,2025-09-19

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