半導体装置、および、半導体装置の製造方法[ja]

被引:0
申请号
JP20170558577
申请日
2017-07-04
公开(公告)号
JPWO2019008658A1
公开(公告)日
2019-07-04
发明(设计)人
申请人
申请人地址
IPC主分类号
H01L21/338
IPC分类号
H01L21/316 H01L29/778 H01L29/812
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
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共 50 条
[1]
半導体装置および半導体装置の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP6985477B1 ,2021-12-22
[2]
半導体装置、および、半導体装置の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP6293394B1 ,2018-03-14
[3]
半導体製造装置および半導体装置の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2004095560A1 ,2006-07-13
[4]
半導体製造装置および半導体装置の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2005093806A1 ,2008-02-14
[6]
半導体製造装置及び半導体装置の製造方法[ja] [P]. 
ARAKAWA SHOHEI ;
OSADA YUTA .
日本专利 :JP2024044633A ,2024-04-02
[7]
半導体装置及び半導体装置の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2010095201A1 ,2012-08-16
[8]
半導体装置およびその製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2019150526A1 ,2020-02-06
[9]
半導体装置およびその製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2019073801A1 ,2020-10-22
[10]
半導体装置およびその製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2010029819A1 ,2012-02-02