機能性粒子及びその製造方法及びプラズマ処理方法[ja]

被引:0
申请号
JP20020564982
申请日
2002-02-08
公开(公告)号
JPWO2002064654A1
公开(公告)日
2004-06-17
发明(设计)人
申请人
申请人地址
IPC主分类号
C08J3/12
IPC分类号
C08F291/00 C08F291/18 C08F292/00 C08J7/00 C08J7/16 C08J9/36 C08L51/00 C08L51/08 C08L51/10
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
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共 50 条
[2]
中空粒子及びその製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP6595898B2 ,2019-10-23
[3]
中空粒子及びその製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP6028420B2 ,2016-11-16
[4]
銅粒子及びその製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP7121884B1 ,2022-08-19
[5]
中空粒子及びその製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP7759491B2 ,2025-10-23
[6]
被覆粒子及びその製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2018207627A1 ,2020-03-12
[7]
中空粒子及びその製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP7510733B2 ,2024-07-04
[8]
無機質中空粒子及びその製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP6191987B2 ,2017-09-06
[9]
中空粒子、その製造方法及びその用途[ja] [P]. 
日本专利 :JP7191932B2 ,2022-12-19
[10]
中空粒子、その製造方法及びその用途[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2019177006A1 ,2021-03-18