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遠心力が最適化された接触面を有するロータ[ja]
被引:0
申请号
:
JP20200549678
申请日
:
2019-04-16
公开(公告)号
:
JP6995217B2
公开(公告)日
:
2022-01-14
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
F01D5/30
IPC分类号
:
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
遠心力が最適化された接触面を有するロータ[ja]
[P].
日本专利
:JP2021517616A
,2021-07-26
[2]
改善された細胞接触面を有する細胞培養チャンバ[ja]
[P].
日本专利
:JP7696340B2
,2025-06-20
[3]
改善された細胞接触面を有する細胞培養チャンバ[ja]
[P].
日本专利
:JP2025134748A
,2025-09-17
[4]
改良された接触面を有するコンタクトを備えた電気アセンブリ[ja]
[P].
日本专利
:JP2022524883A
,2022-05-10
[5]
改善された細胞接触面を有する細胞培養チャンバ[ja]
[P].
日本专利
:JP2022554178A
,2022-12-28
[6]
ヒドロキシル化された軟組織接触面を有する2ステージインプラント[ja]
[P].
日本专利
:JP6029105B2
,2016-11-24
[7]
ヒドロキシル化された軟組織接触面を有する2ステージインプラント[ja]
[P].
日本专利
:JP6211466B2
,2017-10-11
[8]
接触面の少なくとも一方において、接触面の一方に施与された犠牲層を溶解させながら金属接触面を接合する方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6282342B2
,2018-02-21
[9]
接触面の少なくとも一方において、接触面の一方に施与された犠牲層を溶解させながら金属接触面を接合する方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2016524335A
,2016-08-12
[10]
接触面の少なくとも一方において、接触面の一方に施与された犠牲層を溶解させながら金属接触面を接合する方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6590961B2
,2019-10-16
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