ブラックマトリックス用組成物、ブラックマトリックス、およびブラックマトリックスの製造方法[ja]

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申请号
JP20180555056
申请日
2017-12-07
公开(公告)号
JPWO2018105679A1
公开(公告)日
2019-10-31
发明(设计)人
申请人
申请人地址
IPC主分类号
G02B5/20
IPC分类号
C08K3/04 C08K3/36 C08K9/06 C08L83/04 C09D7/61 C09D7/62 C09D183/04
代理机构
代理人
法律状态
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共 50 条
[1]
ブラックマトリックス用顔料分散組成物、ブラックマトリックス用レジスト組成物、及び、ブラックマトリックス[ja] [P]. 
INOUE TAKUYA ;
TODA MITSUNOBU ;
TSUJI YASUTO ;
HIRAI JUNICHI .
日本专利 :JP2024121270A ,2024-09-06
[2]
ブラックマトリクス基板[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2014136738A1 ,2017-02-09
[3]
ブラックマトリックス用顔料分散組成物、ブラックマトリックス用顔料分散レジスト組成物、及びブラックレジスト膜[ja] [P]. 
HIRAI JUNICHI ;
TSUJI YASUTO ;
TODA MITSUNOBU ;
NAKAGAWA TOMOKI ;
MURAKAMI NATSUKI ;
FUJII MANA .
日本专利 :JP2024006903A ,2024-01-17
[4]
感光性組成物、隔壁、ブラックマトリックス[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2008146855A1 ,2010-08-19
[6]
感光性着色組成物、ブラックマトリックス、およびシリコン基板[ja] [P]. 
TSUNEKAWA SHINJI ;
FURUSAWA TAKAHITO ;
KOGURE KENTO ;
YAMAUCHI ATSUSHI ;
KUBO MASAHIRO .
日本专利 :JP2022164724A ,2022-10-27
[9]
リラックス用組成物[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2016208556A1 ,2018-06-07