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フッ素含有界面活性剤を含む膜形成組成物[ja]
被引:0
申请号
:
JP20200096896
申请日
:
2020-06-03
公开(公告)号
:
JP7220175B2
公开(公告)日
:
2023-02-09
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
G03F7/38
IPC分类号
:
G03F7/11
G03F7/26
H01L21/027
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
フッ素含有界面活性剤を含む膜形成組成物[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2015122296A1
,2017-03-30
[2]
フッ素化界面活性剤含有組成物[ja]
[P].
WILLIAM M LAMANNA
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
3M INNOVATIVE PROPERTIES CO
WILLIAM M LAMANNA
;
PATRICIA M SAVU
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
3M INNOVATIVE PROPERTIES CO
PATRICIA M SAVU
;
JASON M KEHREN
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
3M INNOVATIVE PROPERTIES CO
JASON M KEHREN
;
LIPING CLARYN NG
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
3M INNOVATIVE PROPERTIES CO
LIPING CLARYN NG
;
IKEGAYA NAMIKO
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
3M INNOVATIVE PROPERTIES CO
IKEGAYA NAMIKO
.
日本专利
:JP2022008478A
,2022-01-13
[3]
フッ素化界面活性剤含有組成物[ja]
[P].
日本专利
:JP2017528568A
,2017-09-28
[4]
フッ素系界面活性剤組成物[ja]
[P].
日本专利
:JP7283685B2
,2023-05-30
[5]
界面活性剤、該界面活性剤を含む組成物、その用途および含フッ素化合物[ja]
[P].
日本专利
:JP5931758B2
,2016-06-08
[6]
界面活性剤、該界面活性剤を含む組成物、その用途および含フッ素化合物[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2012111741A1
,2014-07-07
[7]
アミン含有界面活性剤を含むポリッシング加工用組成物[ja]
[P].
日本专利
:JP2019525972A
,2019-09-12
[8]
アミン含有界面活性剤を含むポリッシング加工用組成物[ja]
[P].
日本专利
:JP7021123B2
,2022-02-16
[9]
界面活性剤含有組成物[ja]
[P].
IKENOUE KUMIKO
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
SUNSTAR INC
SUNSTAR INC
IKENOUE KUMIKO
;
SAKAMOTO RIE
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
SUNSTAR INC
SUNSTAR INC
SAKAMOTO RIE
.
日本专利
:JP2024091119A
,2024-07-04
[10]
含フッ素化合物、含フッ素界面活性剤およびその組成物[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2011013615A1
,2013-01-07
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