学术探索
学术期刊
学术作者
新闻热点
数据分析
智能评审
光学異方体及びその製造方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20190566484
申请日
:
2019-01-16
公开(公告)号
:
JPWO2019142831A1
公开(公告)日
:
2021-01-07
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
G02B5/30
IPC分类号
:
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
引用
下载
收藏
法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
光学異方体及びその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2019142839A1
,2021-01-28
[2]
光学異方性層及びその製造方法、光学異方性積層体及びその製造方法、光学異方性転写体、偏光板、並びに画像表示装置[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2019069855A1
,2020-11-26
[3]
光学異方性層及びその製造方法、光学異方性積層体及びその製造方法、光学異方性転写体、偏光板、並びに画像表示装置[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2017170455A1
,2019-02-07
[4]
重合性液晶組成物、光学異方体及びその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2019124154A1
,2020-05-28
[5]
光学異方性層及びその製造方法、光学異方性積層体並びに円偏光板[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2017110631A1
,2018-10-11
[6]
光学異方性層の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2019240048A1
,2021-06-10
[7]
光学積層体及びその製造方法[ja]
[P].
SOFUE SHOJI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
SUMITOMO CHEMICAL CO
SUMITOMO CHEMICAL CO
SOFUE SHOJI
;
MATSUNO KENJI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
SUMITOMO CHEMICAL CO
SUMITOMO CHEMICAL CO
MATSUNO KENJI
;
SAITO SOSUKE
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
SUMITOMO CHEMICAL CO
SUMITOMO CHEMICAL CO
SAITO SOSUKE
;
KAWAKAMI TAKESHI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
SUMITOMO CHEMICAL CO
SUMITOMO CHEMICAL CO
KAWAKAMI TAKESHI
.
日本专利
:JP2024146770A
,2024-10-15
[8]
光学積層体及びその製造方法[ja]
[P].
NADA TAKAYUKI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
SUMITOMO CHEMICAL CO
SUMITOMO CHEMICAL CO
NADA TAKAYUKI
;
HATANAKA NOBUYUKI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
SUMITOMO CHEMICAL CO
SUMITOMO CHEMICAL CO
HATANAKA NOBUYUKI
.
日本专利
:JP2025080946A
,2025-05-27
[9]
光学積層体及びその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2025134252A
,2025-09-17
[10]
ヒドラジン化合物、その使用方法及び光学異方体の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6773613B2
,2020-10-21
←
1
2
3
4
5
→