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非イオン性X線造影剤の合成における中間体を精製するための代替プロセス[ja]
被引:0
申请号
:
JP20160536246
申请日
:
2014-12-08
公开(公告)号
:
JP2017503764A
公开(公告)日
:
2017-02-02
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
C07C231/02
IPC分类号
:
B01J31/02
C07C231/24
C07C237/46
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态公告日
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法律状态信息
共 50 条
[1]
非イオン性X線造影剤の合成における中間体を精製するための代替プロセス[ja]
[P].
日本专利
:JP2016539142A
,2016-12-15
[2]
非イオン性X線造影剤の合成における代替アセチル化方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2016539147A
,2016-12-15
[3]
非イオン性造影剤の調製に有用な中間体の調製プロセス[ja]
[P].
日本专利
:JP2023055797A
,2023-04-18
[4]
非イオン性造影剤の調製に有用な中間体の調製プロセス[ja]
[P].
日本专利
:JP2018517705A
,2018-07-05
[5]
フルセトスルフロン除草剤の中間体を合成するためのプロセス[ja]
[P].
日本专利
:JP2017506634A
,2017-03-09
[6]
リガンドを精製するためのプロセス[ja]
[P].
日本专利
:JP2020524134A
,2020-08-13
[7]
JAK阻害剤およびその中間体を調製するためのプロセス[ja]
[P].
日本专利
:JP2021535176A
,2021-12-16
[8]
ROCK阻害剤を調製するための合成中間体および改善したプロセス[ja]
[P].
日本专利
:JP2025502210A
,2025-01-24
[9]
Eセレクチン阻害剤中間体を調製するためのプロセス[ja]
[P].
日本专利
:JP2022546277A
,2022-11-04
[10]
BTK阻害剤を調製するためのプロセス及び中間体[ja]
[P].
日本专利
:JP2022533747A
,2022-07-25
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