（Ｒ）−１，１，３−トリメチル−４−アミノインダンの製造方法[ja]

被引：0

申请号：

JP20140533167

申请日：

2013-08-28

公开(公告)号：

JPWO2014034957A1

公开(公告)日：

2016-08-08

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

C07C209/88

IPC分类号：

C07C211/60

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共 50 条

[1]

（１Ｒ，２Ｓ）－２，６－ジメチル－１－インダンアミンの製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP2025527617A ,2025-08-22

[2]

（３Ｒ，４Ｒ）−（１−ベンジル−４−メチルピペリジン−３−イル）−メチルアミンの改良された調製方法[ja] [P].

日本专利 :JP2017503007A ,2017-01-26

[3]

１−ベンジル−４−［（５，６−ジメトキシ−１−インダノン）−２−イリデン］メチルピペリジンの製造法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2007013395A1 ,2009-02-05

[4]

ジメチルアミンの製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2004002937A1 ,2005-10-27

[5]

３−アミノメチル−３，５，５−トリメチルシクロヘキシルアミンの製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP2018505175A ,2018-02-22

[6]

修飾メチルアルミノキサンの製造方法[ja] [P].

YOSHIOKA ETSUO ;

KUBOTA JUNYA ;

KITAMURA MICHIKA ;

MAEBAYASHI HARUKI .

日本专利 :JP2025118332A ,2025-08-13

[7]

光学活性（４Ｒ）−１，３−チアゾリジン−４−カルボン酸の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2002048383A1 ,2004-04-15

[8]

アダマンチル（メタ）アクリレートの製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2013141127A1 ,2015-08-03

[9]

アミノアダマンタンカルバメート誘導体の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2012020724A1 ,2013-10-28

[10]

高純度１−ベンジル−３−アミノピロリジンの製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2010079605A1 ,2012-06-21

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