導電膜形成用組成物および導電膜形成方法[ja]

被引：0

申请号：

JP20160545040

申请日：

2015-07-13

公开(公告)号：

JPWO2016031409A1

公开(公告)日：

2017-05-25

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

C09D1/00

IPC分类号：

B05D5/12 B05D7/02 B05D7/24 C01G3/02 C09C1/66 C09C3/04 C09D5/24 C09D7/12 H01B1/00 H01B1/20 H01B1/22 H01B13/00

代理机构：

代理人：

法律状态：

国省代码：

引用

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共 50 条

[1]

導電性組成物、導電膜、及び導電膜の形成方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2012066957A1 ,2014-05-12

[2]

導電膜形成用組成物、および、導電膜の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2016136409A1 ,2017-09-28

[3]

導電性組成物、導電性被膜および導電性被膜の形成方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2003056574A1 ,2005-05-12

[4]

導電性組成物、導電性被膜および導電性被膜の形成方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2003085052A1 ,2005-08-11

[5]

導電性膜形成用の組成物[ja] [P].

日本专利 :JPWO2014046306A1 ,2016-08-18

[6]

導電性組成物及び導電膜[ja] [P].

日本专利 :JP2022103133A ,2022-07-07

[7]

導電性膜の形成方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2013129701A1 ,2015-07-30

[8]

透明導電膜形成用組成物、透明導電体及び透明導電体の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2015056609A1 ,2017-03-09

[9]

低温成形用導電性組成物および導電膜付き基板[ja] [P].

日本专利 :JP6705046B1 ,2020-06-03

[10]

導電膜除去剤および導電膜除去方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2010113744A1 ,2012-10-11

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