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二次元材料のラジカルアニオン官能化[ja]
被引:0
申请号
:
JP20210550135
申请日
:
2020-02-28
公开(公告)号
:
JP2022535478A
公开(公告)日
:
2022-08-09
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
C01B21/064
IPC分类号
:
C01B32/194
C01B32/21
H01B1/06
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
二次元材料のラジカルアニオン官能化[ja]
[P].
日本专利
:JP7548921B2
,2024-09-10
[2]
二次元シンボル、及び二次元シンボルの読取方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6931935B2
,2021-09-08
[3]
二次元画像のエッジ抽出方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6555211B2
,2019-08-07
[4]
二次元画像からの三次元モデル化オブジェクトの認識[ja]
[P].
日本专利
:JP7049763B2
,2022-04-07
[5]
官能化アルケンのアルコキシカルボニル化方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2014527541A
,2014-10-16
[6]
二次元コード、多値化二次元コード及び二次元コードの生成方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6600905B2
,2019-11-06
[7]
二次元層状材料の積層体[ja]
[P].
日本专利
:JP7012347B2
,2022-02-14
[8]
ジオアーク(geoarc)を使用したビークルの二次元位置の特定[ja]
[P].
日本专利
:JP7033859B2
,2022-03-11
[9]
広幅イオン場を用いる二次元材料の穿孔[ja]
[P].
日本专利
:JP2017510461A
,2017-04-13
[10]
ジオアーク(geoarc)を使用したビークルの二次元位置の特定[ja]
[P].
日本专利
:JP7057632B2
,2022-04-20
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