チオフェン-又はセレノフェンベース材料の合成方法[ja]

被引:0
申请号
JP20210203462
申请日
2021-12-15
公开(公告)号
JP2022033978A
公开(公告)日
2022-03-02
发明(设计)人
SILVIA ROSSELLI NIKOLAUS KNORR ANTHONY ROBERTS TZENKA MITEVA GABRIELE NELLES VITOR DEICHMANN DAVID DANNER FORD WILLIAM E DENNIS CHERCKA VLADIMIR YAKUTKIN LARS PETER SCHELLER
申请人
SONY GROUP CORP
申请人地址
IPC主分类号
H10K99/00
IPC分类号
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
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共 50 条
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