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質量分析装置、質量分析方法、及びイオン源[ja]
被引:0
申请号
:
JP20120220467
申请日
:
2012-10-02
公开(公告)号
:
JP6043568B2
公开(公告)日
:
2016-12-14
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
H01J49/10
IPC分类号
:
G01N27/62
H01J49/04
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
イオン源及び質量分析装置[ja]
[P].
日本专利
:JP7505611B2
,2024-06-25
[2]
二次イオン質量分析方法及び、質量分析装置[ja]
[P].
日本专利
:JP2022137164A
,2022-09-21
[3]
二次イオン質量分析方法及び、質量分析装置[ja]
[P].
日本专利
:JP7290778B2
,2023-06-13
[4]
質量分析装置及び質量分析方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7131699B2
,2022-09-06
[5]
質量分析装置及び質量分析方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6533749B2
,2019-06-19
[6]
質量分析装置及び質量分析方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6583544B2
,2019-10-02
[7]
質量分析装置及び質量分析方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7347685B2
,2023-09-20
[8]
質量分析方法及び質量分析装置[ja]
[P].
日本专利
:JP7411806B2
,2024-01-11
[9]
質量分析方法及び質量分析装置[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2007096970A1
,2009-07-09
[10]
質量分析方法及び質量分析装置[ja]
[P].
日本专利
:JP6269810B2
,2018-01-31
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