ミュオン照射による放射性物質およびその製造方法[ja]

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申请号
JP20130210888
申请日
2013-10-08
公开(公告)号
JP6288694B2
公开(公告)日
2018-03-07
发明(设计)人
申请人
申请人地址
IPC主分类号
G21G1/10
IPC分类号
G21G4/08
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
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共 50 条
[2]
ミュオン照射による放射性物質の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP6873484B2 ,2021-05-19
[5]
低放射性アルミナ粉末およびその製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP7577182B2 ,2024-11-01
[6]
低放射性アルミナ粉末およびその製造方法[ja] [P]. 
HU SHICHENG ;
JIANG BING ;
PENG ZEHUA .
日本专利 :JP2024074786A ,2024-05-31
[7]
[10]
放射性物質の処理装置および方法[ja] [P]. 
IGAWA SHIGENOBU ;
KAWARADA HIDEO .
日本专利 :JP2025062317A ,2025-04-14