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スラッシュ流体の製造方法及び製造装置[ja]
被引:0
申请号
:
JP20070514400
申请日
:
2005-04-25
公开(公告)号
:
JPWO2006114887A1
公开(公告)日
:
2008-12-11
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
F25J1/00
IPC分类号
:
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
懸濁液の製造装置及びその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP5932120B1
,2016-06-08
[2]
固体粒子の製造装置及び固体粒子の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP5768956B2
,2015-08-26
[3]
セラミック基板、光源装置、セラミック基板の製造方法及び光源装置の製造方法[ja]
[P].
SASAOKA NORIFUMI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
NICHIA KAGAKU KOGYO KK
NICHIA KAGAKU KOGYO KK
SASAOKA NORIFUMI
;
YAMADA SHOICHI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
NICHIA KAGAKU KOGYO KK
NICHIA KAGAKU KOGYO KK
YAMADA SHOICHI
;
NAGAE AKIKO
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
NICHIA KAGAKU KOGYO KK
NICHIA KAGAKU KOGYO KK
NAGAE AKIKO
.
日本专利
:JP2025037781A
,2025-03-18
[4]
モノシランの熱分解によるジシランの製造方法及び製造装置[ja]
[P].
日本专利
:JP2015523304A
,2015-08-13
[5]
触媒及びその製造[ja]
[P].
日本专利
:JP2023516036A
,2023-04-17
[6]
造粒組成物及び固形製剤の製造方法、並びに造粒装置[ja]
[P].
日本专利
:JP2025164466A
,2025-10-30
[7]
積層体の製造方法及び透明導電性基材の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6133467B1
,2017-05-24
[8]
水精製装置及びウエーハの製造方法[ja]
[P].
NOMOTO TOMOTERU
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
DISCO ABRASIVE SYSTEMS LTD
DISCO ABRASIVE SYSTEMS LTD
NOMOTO TOMOTERU
;
HIRATA KAZUYA
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
DISCO ABRASIVE SYSTEMS LTD
DISCO ABRASIVE SYSTEMS LTD
HIRATA KAZUYA
.
日本专利
:JP2024130583A
,2024-09-30
[9]
繊維成形体の製造方法及び装置[ja]
[P].
日本专利
:JP2025539667A
,2025-12-08
[10]
分散液の製造方法及び分散液[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2015087986A1
,2017-03-16
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