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コンタクトホールパターンの形成方法及び組成物[ja]
被引:0
申请号
:
JP20170566910
申请日
:
2017-02-02
公开(公告)号
:
JPWO2017138440A1
公开(公告)日
:
2019-01-10
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
H01L21/768
IPC分类号
:
H01L21/027
H01L21/3065
H01L21/3205
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
パターン形成方法、上層膜形成用組成物、レジストパターン、及び、電子デバイスの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2016052384A1
,2017-05-25
[2]
パターン形成方法、レジストパターン、電子デバイスの製造方法、及び、上層膜形成用組成物[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2016158208A1
,2017-07-06
[3]
上層膜形成用組成物及びフォトレジストパターン形成方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2008047678A1
,2010-02-25
[4]
車両用ホイールコーティング組成物及びホイール[ja]
[P].
日本专利
:JP3168595U
,2011-06-23
[5]
上層膜形成用組成物およびフォトレジストパターン形成方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2008038590A1
,2010-01-28
[6]
レジストパターン形成方法及び複合リンス液[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2005103832A1
,2008-03-13
[7]
感放射線性樹脂組成物、重合体及びレジストパターン形成方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2010140637A1
,2012-11-22
[8]
感放射線性樹脂組成物、重合体及びレジストパターン形成方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2010123009A1
,2012-10-25
[9]
感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法、重合体及び化合物[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2011145702A1
,2013-07-22
[10]
感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法、重合体及び化合物[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2011145703A1
,2013-07-22
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