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高周波装置[ja]
被引:0
申请号
:
JP20190570582
申请日
:
2018-03-12
公开(公告)号
:
JPWO2019175933A1
公开(公告)日
:
2020-04-16
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
H01L23/00
IPC分类号
:
H01L23/02
H05K7/20
H05K9/00
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
高周波装置[ja]
[P].
日本专利
:JP7189374B2
,2022-12-13
[2]
高周波装置[ja]
[P].
日本专利
:JP6121646B2
,2017-04-26
[3]
高周波装置[ja]
[P].
日本专利
:JP6408160B2
,2018-10-17
[4]
高周波装置[ja]
[P].
日本专利
:JP5616839B2
,2014-10-29
[5]
高周波装置[ja]
[P].
日本专利
:JP7350178B2
,2023-09-25
[6]
高周波装置[ja]
[P].
日本专利
:JP6290448B2
,2018-03-07
[7]
高周波装置[ja]
[P].
日本专利
:JP7632219B2
,2025-02-19
[8]
高周波装置[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2016084473A1
,2017-06-08
[9]
高周波装置[ja]
[P].
日本专利
:JP5736955B2
,2015-06-17
[10]
高周波装置[ja]
[P].
日本专利
:JP6798252B2
,2020-12-09
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