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酸化物および窒化物に選択的な高除去速度および低欠陥のCMP組成物[ja]
被引:0
申请号
:
JP20150500597
申请日
:
2013-03-14
公开(公告)号
:
JP6082097B2
公开(公告)日
:
2017-02-15
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
C09K3/14
IPC分类号
:
B24B37/00
C09G1/02
H01L21/304
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
酸化物および窒化物に選択的な高除去速度および低欠陥のCMP組成物[ja]
[P].
日本专利
:JP2015516476A
,2015-06-11
[2]
酸化物および窒化物に選択的な高除去速度および低欠陥を有するCMP組成物[ja]
[P].
日本专利
:JP2016524004A
,2016-08-12
[3]
酸化物および窒化物に選択的な高除去速度および低欠陥を有するCMP組成物[ja]
[P].
日本专利
:JP6434501B2
,2018-12-05
[4]
窒素酸化物の除去方法および窒素酸化物除去装置[ja]
[P].
日本专利
:JP2018525208A
,2018-09-06
[5]
窒素酸化物の除去方法および窒素酸化物除去装置[ja]
[P].
日本专利
:JP6663446B2
,2020-03-11
[6]
窒素酸化物除去装置および窒素酸化物除去方法[ja]
[P].
日本专利
:JP5837548B2
,2015-12-24
[7]
窒素酸化物除去装置および窒素酸化物除去方法[ja]
[P].
日本专利
:JP5628968B2
,2014-11-19
[8]
触媒組成物および窒素酸化物の選択的触媒還元における使用方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6112734B2
,2017-04-12
[9]
触媒組成物および窒素酸化物の選択的触媒還元における使用方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2015501210A
,2015-01-15
[10]
選択的酸化物CMPのための組成物及び方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2022553336A
,2022-12-22
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