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膜厚測定装置及び膜厚測定方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20150188381
申请日
:
2015-09-25
公开(公告)号
:
JP6589239B2
公开(公告)日
:
2019-10-16
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
G01B15/02
IPC分类号
:
G01B11/06
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
膜厚測定装置及び膜厚測定方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2022179471A
,2022-12-02
[2]
膜厚測定装置及び膜厚測定方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7788358B2
,2025-12-18
[3]
膜厚測定装置及び膜厚測定方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7064465B2
,2022-05-10
[4]
膜厚測定装置及び膜厚測定方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7690648B2
,2025-06-10
[5]
膜厚測定装置及び膜厚測定方法[ja]
[P].
NISHIMURA YOSHIHIRO
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
LASERTEC CORP
LASERTEC CORP
NISHIMURA YOSHIHIRO
;
MAEKAWA HIROYUKI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
LASERTEC CORP
LASERTEC CORP
MAEKAWA HIROYUKI
.
日本专利
:JP2023170825A
,2023-12-01
[6]
膜厚測定装置及び膜厚測定方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2012140693A1
,2014-07-28
[7]
膜厚測定装置及び膜厚測定方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7532702B1
,2024-08-13
[8]
膜厚測定装置及び膜厚測定方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7121222B1
,2022-08-17
[9]
膜厚測定装置及び膜厚測定方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6923363B2
,2021-08-18
[10]
膜厚測定装置及び膜厚測定方法[ja]
[P].
NAKAMURA TOMONORI
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
HAMAMATSU PHOTONICS KK
HAMAMATSU PHOTONICS KK
NAKAMURA TOMONORI
;
OTSUKA KENICHI
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
HAMAMATSU PHOTONICS KK
HAMAMATSU PHOTONICS KK
OTSUKA KENICHI
;
ARANO SATOSHI
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
HAMAMATSU PHOTONICS KK
HAMAMATSU PHOTONICS KK
ARANO SATOSHI
;
TSUCHIYA KUNIHIKO
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
HAMAMATSU PHOTONICS KK
HAMAMATSU PHOTONICS KK
TSUCHIYA KUNIHIKO
.
日本专利
:JP2025122186A
,2025-08-20
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