放射性高分子マトリクス[ja]

被引：0

申请号：

JP20170514413

申请日：

2015-09-15

公开(公告)号：

JP2017528572A

公开(公告)日：

2017-09-28

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

C08F2/44

IPC分类号：

A61L15/24 A61L26/00 A61P17/00 A61P17/02 A61P17/06 A61P17/08 A61P17/10

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法律状态信息

共 50 条

[1]

混合マトリックス高分子膜[ja] [P].

日本专利 :JP2017500204A ,2017-01-05

[2]

処理済み混合マトリックス高分子膜[ja] [P].

日本专利 :JP2017501862A ,2017-01-19

[3]

処理済み混合マトリックス高分子膜[ja] [P].

日本专利 :JP6203393B2 ,2017-09-27

[4]

放射性同位素高分子多层膜 [P].

沈阳 .

中国专利 :CN205411713U ,2016-08-03

[5]

高分子マトリックス複合材料の再生利用[ja] [P].

JAN-MICHAEL GOSAU ;

RONALD E ALLRED .

日本专利 :JP2022046640A ,2022-03-23

[6]

高分子マトリックス複合材料の再生利用[ja] [P].

日本专利 :JP2019510865A ,2019-04-18

[7]

高分子マトリックス複合材料の再生利用[ja] [P].

日本专利 :JP7094889B2 ,2022-07-04

[8]

両親媒性トリブロック高分子[ja] [P].

日本专利 :JP6800242B2 ,2020-12-16

[9]

両親媒性トリブロック高分子[ja] [P].

日本专利 :JP2019518099A ,2019-06-27

[10]

放射性ステント[ja] [P].

日本专利 :JP2018523530A ,2018-08-23

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