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金属酸化物被膜用塗布液及び金属酸化物被膜[ja]
被引:0
申请号
:
JP20140521379
申请日
:
2013-06-12
公开(公告)号
:
JPWO2013187450A1
公开(公告)日
:
2016-02-08
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
C09D185/00
IPC分类号
:
B05D7/24
C09D7/12
C09D183/00
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
金属酸化物被膜用塗布液及び金属酸化物被膜[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2013115333A1
,2015-05-11
[2]
金属酸化物被膜用塗布液の製造方法、金属酸化物被膜用塗布液及び金属酸化物被膜[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2013065696A1
,2015-04-02
[3]
金属酸化物被膜用塗布液の製造方法、金属酸化物被膜用塗布液及び金属酸化物被膜[ja]
[P].
日本专利
:JP6075292B2
,2017-02-08
[4]
金属酸化物被膜用塗布液の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6156373B2
,2017-07-05
[5]
金属酸化物膜形成用組成物及び金属酸化物膜[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2014203951A1
,2017-02-23
[6]
無機酸化物被膜形成用塗布液、無機酸化物被膜、及び表示デバイス[ja]
[P].
日本专利
:JP6287846B2
,2018-03-07
[7]
無機酸化物被膜形成用塗布液、無機酸化物被膜、及び表示デバイス[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2014058018A1
,2016-09-05
[8]
金属酸化物膜形成用組成物及び金属酸化物膜[ja]
[P].
日本专利
:JP6383983B2
,2018-09-05
[9]
金属酸化物膜[ja]
[P].
日本专利
:JP5654648B2
,2015-01-14
[10]
金属酸化物膜[ja]
[P].
TAKAHASHI MASAHIRO
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
SEMICONDUCTOR ENERGY LAB CO LTD
SEMICONDUCTOR ENERGY LAB CO LTD
TAKAHASHI MASAHIRO
;
HIROHASHI TAKUYA
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
SEMICONDUCTOR ENERGY LAB CO LTD
SEMICONDUCTOR ENERGY LAB CO LTD
HIROHASHI TAKUYA
;
TSUBUKI MASASHI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
SEMICONDUCTOR ENERGY LAB CO LTD
SEMICONDUCTOR ENERGY LAB CO LTD
TSUBUKI MASASHI
;
OTA MASASHI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
SEMICONDUCTOR ENERGY LAB CO LTD
SEMICONDUCTOR ENERGY LAB CO LTD
OTA MASASHI
.
日本专利
:JP2024010113A
,2024-01-23
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