ラジカル反応抑制剤及びラジカル反応抑制方法並びにその用途[ja]

被引：0

申请号：

JP20040532712

申请日：

2003-08-26

公开(公告)号：

JPWO2004020552A1

公开(公告)日：

2005-12-15

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

C09K15/06

IPC分类号：

A23B4/20 A23D7/005 A23D9/05 A23F3/16 A23K3/00 A23L1/00 A23L1/09 A23L2/44 A23L3/3562 A23L7/196 A23L9/20 A23L25/00 A23L27/00 A23L27/12 A23L27/60 A23L29/269 A61K8/60 A61K9/00 A61K9/02 A61K9/20 A61K47/22 A61K47/26 A61K47/28 A61Q17/00 A61Q19/00 A61Q19/08 C08F2/40 C08L101/00 C11B5/00

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共 50 条

[1]

ラジカル付加反応開始剤及びその使用方法[ja] [P].

日本专利 :JP2022518201A ,2022-03-14

[2]

メイラード反応抑制剤、Α−ジカルボニル化合物分解剤、およびメイラード反応抑制方法[ja] [P].

日本专利 :JP5783612B2 ,2015-09-24

[3]

メイラード反応抑制剤、α−ジカルボニル化合物分解剤、およびメイラード反応抑制方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2011105465A1 ,2013-06-20

[4]

ラジカル重合方法および重合反応装置[ja] [P].

日本专利 :JPWO2016031752A1 ,2017-06-15

[5]

分子内ラジカル環化反応方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2002032890A1 ,2004-02-26

[6]

リビングラジカル重合反応助触媒[ja] [P].

日本专利 :JPWO2008108500A1 ,2010-06-17

[7]

非特異反応抑制剤、非特異反応抑制方法及びキット[ja] [P].

日本专利 :JPWO2013002309A1 ,2015-02-23

[8]

パラジウム錯体及びその製造方法、触媒並びに反応方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2007026490A1 ,2009-03-05

[9]

低温ラジカル開始剤系並びにそれの使用法[ja] [P].

日本专利 :JP2019507112A ,2019-03-14

[10]

エステル化反応用反応装置並びにエステル化物及びその製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2006134884A1 ,2009-01-08

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