研磨用組成物、及び当該研磨用組成物を用いた化合物半導体基板の製造方法[ja]

被引:0
申请号
JP20140503829
申请日
2013-03-04
公开(公告)号
JP6042407B2
公开(公告)日
2016-12-14
发明(设计)人
申请人
申请人地址
IPC主分类号
C09K3/14
IPC分类号
B24B37/00 C09G1/02 H01L21/304
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
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共 50 条
[2]
研磨用組成物、研磨用組成物の製造方法、研磨方法、半導体基板の製造方法[ja] [P]. 
MAE RYOTA .
日本专利 :JP2024048924A ,2024-04-09
[3]
化合物半導体研磨用組成物[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2013021946A1 ,2015-03-05
[5]
研磨用組成物および研磨用組成物の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2016031485A1 ,2017-06-22
[9]
[10]
研磨用組成物[ja] [P]. 
NAKAGAI YUICHIRO .
日本专利 :JP2024016448A ,2024-02-07