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研磨用組成物、及び当該研磨用組成物を用いた化合物半導体基板の製造方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20140503829
申请日
:
2013-03-04
公开(公告)号
:
JP6042407B2
公开(公告)日
:
2016-12-14
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
C09K3/14
IPC分类号
:
B24B37/00
C09G1/02
H01L21/304
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
研磨用組成物、及び当該研磨用組成物を用いた化合物半導体基板の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2013133198A1
,2015-07-30
[2]
研磨用組成物、研磨用組成物の製造方法、研磨方法、半導体基板の製造方法[ja]
[P].
MAE RYOTA
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
FUJIMI INC
FUJIMI INC
MAE RYOTA
.
日本专利
:JP2024048924A
,2024-04-09
[3]
化合物半導体研磨用組成物[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2013021946A1
,2015-03-05
[4]
研磨用組成物、その製造方法および研磨用組成物を用いた研磨方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2018150856A1
,2019-12-26
[5]
研磨用組成物および研磨用組成物の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2016031485A1
,2017-06-22
[6]
研磨用組成物、研磨用組成物の製造方法、および研磨方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2019066014A1
,2020-11-26
[7]
研磨用組成物、研磨用組成物製造方法および研磨用組成物調製用キット[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2014148399A1
,2017-02-16
[8]
研磨用組成物、研磨用組成物製造方法および研磨用組成物調製用キット[ja]
[P].
日本专利
:JP2022118024A
,2022-08-12
[9]
研磨用組成物および化合物半導体基板の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6051679B2
,2016-12-27
[10]
研磨用組成物[ja]
[P].
NAKAGAI YUICHIRO
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
FUJIMI INC
FUJIMI INC
NAKAGAI YUICHIRO
.
日本专利
:JP2024016448A
,2024-02-07
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