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投影光学系及び投影装置[ja]
被引:0
申请号
:
JP20160056583
申请日
:
2016-03-22
公开(公告)号
:
JP6658172B2
公开(公告)日
:
2020-03-04
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
G02B13/24
IPC分类号
:
G02B13/22
G02B13/26
G03F7/207
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
投影光学系及び投影装置[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2016017434A1
,2017-04-27
[2]
投影光学系及び投影装置[ja]
[P].
日本专利
:JP7188297B2
,2022-12-13
[3]
投影光学系及び投影装置[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2020110380A1
,2021-10-21
[4]
投影光学系及び投影装置[ja]
[P].
日本专利
:JP7019961B2
,2022-02-16
[5]
投影光学系及び投影装置[ja]
[P].
日本专利
:JP7168000B2
,2022-11-09
[6]
変倍投影光学系及び投影装置[ja]
[P].
日本专利
:JP7661797B2
,2025-04-15
[7]
投影光学系および投影装置[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2009107744A1
,2011-07-07
[8]
投影光学系统及投影装置
[P].
增井淳雄
论文数:
0
引用数:
0
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0
增井淳雄
;
井上和彦
论文数:
0
引用数:
0
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井上和彦
.
中国专利
:CN112180570A
,2021-01-05
[9]
投影光学系统及投影装置
[P].
刘美鸿
论文数:
0
引用数:
0
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0
刘美鸿
;
母林
论文数:
0
引用数:
0
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0
母林
;
纪超超
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
纪超超
.
中国专利
:CN105759543A
,2016-07-13
[10]
投射光学系及び投影装置[ja]
[P].
日本专利
:JP6713639B2
,2020-06-24
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