高周波半導体装置[ja]

被引:0
申请号
JP20150177031
申请日
2015-09-08
公开(公告)号
JP6557561B2
公开(公告)日
2019-08-07
发明(设计)人
申请人
申请人地址
IPC主分类号
H01P5/08
IPC分类号
H01L23/12 H01P5/02
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
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共 50 条
[1]
高周波半導体装置[ja] [P]. 
日本专利 :JP6490541B2 ,2019-03-27
[2]
高周波半導体装置[ja] [P]. 
日本专利 :JP6373779B2 ,2018-08-15
[3]
高周波半導体装置[ja] [P]. 
日本专利 :JP5892770B2 ,2016-03-23
[4]
高周波半導体装置[ja] [P]. 
日本专利 :JP7239023B2 ,2023-03-14
[5]
高周波半導体装置[ja] [P]. 
日本专利 :JP6426498B2 ,2018-11-21
[6]
高周波半導体装置[ja] [P]. 
日本专利 :JP6462535B2 ,2019-01-30
[7]
高周波半導体装置[ja] [P]. 
日本专利 :JP6203103B2 ,2017-09-27
[8]
高周波半導体装置[ja] [P]. 
日本专利 :JP5658874B2 ,2015-01-28
[9]
高周波半導体装置[ja] [P]. 
日本专利 :JP6268132B2 ,2018-01-24
[10]
高周波半導体装置[ja] [P]. 
日本专利 :JP6012953B2 ,2016-10-25