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高周波照射装置、高周波照射システムおよび高周波照射方法[ja]
被引：0
申请号：
JP20150235763
申请日：
2015-12-02
公开(公告)号：
JP6433416B2
公开(公告)日：
2018-12-05
发明(设计)人：
申请人：
申请人地址：
IPC主分类号：
H05B6/66
IPC分类号：
代理机构：
代理人：
法律状态：
国省代码：
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法律状态
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