紫外線システムにおける高周波源の好適性を決定するためのシステム及び方法[ja]

被引:0
申请号
JP20170500832
申请日
2015-07-06
公开(公告)号
JP6691530B2
公开(公告)日
2020-04-28
发明(设计)人
申请人
申请人地址
IPC主分类号
H01J23/34
IPC分类号
H05B41/24
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
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共 50 条
[7]
信号の高周波成分を生成するためのシステム及び方法[ja] [P]. 
PER EKSTRAND ;
LARS VILLEMOES ;
PER HEDELIN .
日本专利 :JP2025108596A ,2025-07-23