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外部エレベータ及び外部エレベータの設置方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20170213197
申请日
:
2017-11-02
公开(公告)号
:
JP6400816B1
公开(公告)日
:
2018-10-03
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
B66B7/00
IPC分类号
:
B66B9/187
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
エレベータ装置、エレベータシステム、及びエレベータ装置の制御方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6614600B1
,2019-12-04
[2]
型枠用セパレータ[ja]
[P].
日本专利
:JP3158435U
,2010-04-02
[3]
建造物の設置構造及び設置方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7014629B2
,2022-02-01
[4]
ミリ波通信ネットワークのためのリピータの設置[ja]
[P].
日本专利
:JP2024504621A
,2024-02-01
[5]
架台のベース、それを備える架台、及び、架台のベースの製造方法[ja]
[P].
KOBAYASHI SHUICHI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
SUNSTACK LLC
SUNSTACK LLC
KOBAYASHI SHUICHI
.
日本专利
:JP2024086101A
,2024-06-27
[6]
架台のベース、それを備える架台、及び、架台のベースの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7501842B1
,2024-06-18
[7]
プレートの施工方法及び建造物[ja]
[P].
日本专利
:JP7463793B2
,2024-04-09
[8]
高レート能力セメント炭素スーパーキャパシター、および高レート能力セメント炭素スーパーキャパシターの合成方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2025525222A
,2025-08-01
[9]
架台のベースおよび架台[ja]
[P].
KOBAYASHI SHUICHI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
SUNSTACK LLC
SUNSTACK LLC
KOBAYASHI SHUICHI
.
日本专利
:JP2025000136A
,2025-01-07
[10]
架台のベースおよび架台[ja]
[P].
日本专利
:JP7558536B1
,2024-10-01
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