学术探索
学术期刊
学术作者
新闻热点
数据分析
智能评审
薄膜形成方法及び薄膜形成装置[ja]
被引:0
申请号
:
JP20080540940
申请日
:
2007-10-12
公开(公告)号
:
JPWO2008050618A1
公开(公告)日
:
2010-02-25
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
C23C14/35
IPC分类号
:
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
引用
下载
收藏
法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
薄膜形成装置及び薄膜形成方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2005116293A1
,2008-04-03
[2]
薄膜形成方法及び薄膜形成装置[ja]
[P].
日本专利
:JP6341635B2
,2018-06-13
[3]
薄膜形成方法及び薄膜形成装置[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2008108185A1
,2010-06-10
[4]
薄膜形成方法及び薄膜形成装置[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2013011775A1
,2015-02-23
[5]
薄膜形成装置及び薄膜形成方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6896795B2
,2021-06-30
[6]
薄膜形成方法及び薄膜形成装置[ja]
[P].
日本专利
:JP5667226B2
,2015-02-12
[7]
薄膜形成装置、及び薄膜形成方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6219594B2
,2017-10-25
[8]
薄膜形成装置及び薄膜形成方法[ja]
[P].
日本专利
:JP5812496B2
,2015-11-11
[9]
薄膜形成方法及び薄膜形成装置[ja]
[P].
日本专利
:JP6222113B2
,2017-11-01
[10]
薄膜形成方法及び薄膜形成装置[ja]
[P].
日本专利
:JP6156633B2
,2017-07-05
←
1
2
3
4
5
→