対象の表面をモニターし、処置するための化合物、システムおよび方法[ja]

被引：0

申请号：

JP20160525348

申请日：

2014-06-13

公开(公告)号：

JP2016531168A

公开(公告)日：

2016-10-06

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

C09B47/00

IPC分类号：

C07D487/22 C09K11/06

代理机构：

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法律状态信息

共 50 条

[1]

対象の表面をモニターし、処置するための化合物、システムおよび方法[ja] [P].

日本专利 :JP6470748B2 ,2019-02-13

[2]

対象のモニタリングと表面処理のためのシステムおよび方法[ja] [P].

日本专利 :JP2015530888A ,2015-10-29

[3]

炎症を処置するための化合物および方法[ja] [P].

CHARLES COHEN ;

KRISHNA KUMAR ;

ALAN S KOPIN ;

BENJAMIN N HARWOOD ;

VENKATA S RAMAN ;

PEDRAM HAMRAH .

日本专利 :JP2023059999A ,2023-04-27

[4]

炎症を処置するための化合物および方法[ja] [P].

日本专利 :JP2019507182A ,2019-03-14

[5]

炎症を処置するための化合物および方法[ja] [P].

日本专利 :JP7432028B2 ,2024-02-15

[6]

癌を処置するための化合物および方法[ja] [P].

日本专利 :JP2025514614A ,2025-05-09

[7]

炎症を処置するための化合物および方法[ja] [P].

日本专利 :JP6924211B2 ,2021-08-25

[8]

癌を処置するための化合物および使用[ja] [P].

日本专利 :JP2016534129A ,2016-11-04

[9]

化学化合物の作用をテストするためのシステムおよび方法[ja] [P].

日本专利 :JP2024536618A ,2024-10-04

[10]

狼瘡を処置するための化合物および方法[ja] [P].

日本专利 :JP7086945B2 ,2022-06-20

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