薄膜処理装置[ja]

被引：0

申请号：

JP20040500327

申请日：

2002-04-26

公开(公告)号：

JPWO2003092063A1

公开(公告)日：

2005-09-02

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

B05B17/04

IPC分类号：

B05B7/26 B05C3/09 B05D1/02 G03F7/16 G03F7/30 H01L21/027 H01L21/306

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法律状态信息

共 50 条

[1]

厨芥処理装置[ja] [P].

OHATA UKIO ;

KAWAZU TATSUNORI ;

MATSUOKA SHUICHI ;

OGA KAGETOMO .

日本专利 :JP2025035652A ,2025-03-14

[2]

基板処理装置[ja] [P].

日本专利 :JP2023001147A ,2023-01-04

[3]

水処理装置及び水処理方法[ja] [P].

TANAKA YOICHI .

日本专利 :JP2025038523A ,2025-03-19

[4]

表面処理方法及び表面処理装置[ja] [P].

日本专利 :JP6208821B1 ,2017-10-04

[5]

基板処理装置及び基板処理方法[ja] [P].

NAGASHIMA YUJI .

日本专利 :JP2024108346A ,2024-08-13

[6]

情報処理装置[ja] [P].

日本专利 :JPWO2019171531A1 ,2020-10-22

[7]

情報処理装置[ja] [P].

日本专利 :JP2025162789A ,2025-10-28

[8]

加熱処理装置[ja] [P].

TERASAWA TAKEHIRO ;

OZAKI SHO ;

SUGIYAMA YUTAKA .

日本专利 :JP2024030238A ,2024-03-07

[9]

情報処理装置[ja] [P].

日本专利 :JP7715883B1 ,2025-07-30

[10]

情報処理装置[ja] [P].

日本专利 :JP7707472B1 ,2025-07-14

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