低反射膜付き透明基板、光電変換装置、低反射膜付き透明基板の低反射膜を形成するための塗工液及び低反射膜付き透明基板の製造方法[ja]

被引:0
申请号
JP20190514444
申请日
2018-04-19
公开(公告)号
JPWO2018198936A1
公开(公告)日
2020-02-27
发明(设计)人
申请人
申请人地址
IPC主分类号
C03C17/32
IPC分类号
G02B1/11 G02B1/16
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
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共 50 条
[4]
膜付き透明基板[ja] [P]. 
日本专利 :JP7563380B2 ,2024-10-08
[5]
膜付き透明基板の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2019151431A1 ,2021-01-28
[6]
膜付き透明基板の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP7303496B2 ,2023-07-05
[7]
带低反射膜的透明基板、光电转换装置、用于形成带低反射膜的透明基板的低反射膜的涂覆液和带低反射膜的透明基板的制造方法 [P]. 
小用瑞穗 ;
中泽达洋 ;
河津光宏 .
中国专利 :CN110546117B ,2019-12-06
[8]
積層膜付き透明基板[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2019131660A1 ,2021-01-07
[9]
積層膜付き透明基板[ja] [P]. 
日本专利 :JP7241699B2 ,2023-03-17
[10]
低反射膜付き物品の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2013065801A1 ,2015-04-02