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二環系誘導体を含む阻害剤、その製造方法及び使用[ja]
被引:0
申请号
:
JP20210568429
申请日
:
2020-05-14
公开(公告)号
:
JP2022532758A
公开(公告)日
:
2022-07-19
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
C07D401/14
IPC分类号
:
A61K31/444
A61K31/4545
A61K31/496
A61K31/4995
A61K31/501
A61K31/519
A61K31/675
A61P35/00
A61P43/00
C07D471/04
C07D487/08
C07D519/00
C07F9/6561
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
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法律状态信息
共 50 条
[1]
二環系誘導体を含む阻害剤の遊離塩基の結晶及びその製造方法と使用[ja]
[P].
日本专利
:JP2023550069A
,2023-11-30
[2]
アミド類誘導体阻害剤及びその製造方法と使用[ja]
[P].
日本专利
:JP2020509041A
,2020-03-26
[3]
三環系誘導体阻害剤、その製造方法と応用[ja]
[P].
日本专利
:JP2025501056A
,2025-01-17
[4]
複素環系誘導体阻害剤の塩、結晶形及びその製造方法と使用[ja]
[P].
日本专利
:JP2025535427A
,2025-10-24
[5]
窒素含有複素環系誘導体阻害剤、その製造方法及び応用[ja]
[P].
日本专利
:JP2025534174A
,2025-10-14
[6]
ピリミジン環を含む二環式誘導体及びその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2016520098A
,2016-07-11
[7]
二環式誘導体PARP阻害剤及びその用途[ja]
[P].
日本专利
:JP2025518592A
,2025-06-17
[8]
ピリダジン系誘導体阻害剤、その製造方法及び使用[ja]
[P].
日本专利
:JP2022524279A
,2022-05-02
[9]
インドール誘導体含有阻害剤、そのための調製方法及びその用途[ja]
[P].
日本专利
:JP2022534063A
,2022-07-27
[10]
窒素含有複素環系誘導体阻害剤、その製造方法及び応用[ja]
[P].
日本专利
:JP2025509371A
,2025-04-11
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