高分子基材、その用途及びその製造方法[ja]

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申请号
JP20150042338
申请日
2015-03-04
公开(公告)号
JP6214583B2
公开(公告)日
2017-10-18
发明(设计)人
申请人
申请人地址
IPC主分类号
C08J7/04
IPC分类号
C03C17/32 C08J7/18
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
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共 50 条
[1]
硫黄含有高分子及びその製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP5706416B2 ,2015-04-22
[2]
高分子錯体及びその製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2016143561A1 ,2018-02-15
[3]
高分子錯体及びその製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP6666009B2 ,2020-03-18
[4]
高分子ゲル及びその製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP6135896B2 ,2017-05-31
[5]
高分子ゲル及びその製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP5850417B2 ,2016-02-03
[6]
高分子ゲル及びその製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP6608160B2 ,2019-11-20
[7]
高分子複合体及びその製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP7678468B2 ,2025-05-16
[8]
高分子ゲル及びその製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP6414193B2 ,2018-10-31
[9]
高分子ゲル及びその製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP6155079B2 ,2017-06-28