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高分子基材、その用途及びその製造方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20150042338
申请日
:
2015-03-04
公开(公告)号
:
JP6214583B2
公开(公告)日
:
2017-10-18
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
C08J7/04
IPC分类号
:
C03C17/32
C08J7/18
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
硫黄含有高分子及びその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP5706416B2
,2015-04-22
[2]
高分子錯体及びその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2016143561A1
,2018-02-15
[3]
高分子錯体及びその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6666009B2
,2020-03-18
[4]
高分子ゲル及びその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6135896B2
,2017-05-31
[5]
高分子ゲル及びその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP5850417B2
,2016-02-03
[6]
高分子ゲル及びその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6608160B2
,2019-11-20
[7]
高分子複合体及びその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7678468B2
,2025-05-16
[8]
高分子ゲル及びその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6414193B2
,2018-10-31
[9]
高分子ゲル及びその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6155079B2
,2017-06-28
[10]
水溶性導電性高分子、その製造方法、その導電性高分子水溶液、及びその用途[ja]
[P].
日本专利
:JP6724526B2
,2020-07-15
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