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SGLT−2の阻害物質として有用な化合物の製造方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20140511566
申请日
:
2012-05-18
公开(公告)号
:
JP6117186B2
公开(公告)日
:
2017-04-19
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
C07H19/04
IPC分类号
:
C07H1/00
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
SGLTの阻害物質として有用な化合物の調製方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6123111B2
,2017-05-10
[2]
SGLTの阻害物質として有用な化合物の調製方法[ja]
[P].
日本专利
:JP5905926B2
,2016-04-20
[3]
SGLT2の阻害物質として有用な化合物の調製プロセス[ja]
[P].
日本专利
:JP5973551B2
,2016-08-23
[4]
SGLT2の阻害物質として有用な化合物の調製プロセス[ja]
[P].
日本专利
:JP5833011B2
,2015-12-16
[5]
TAFIaの阻害剤として有用な化合物の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP5706397B2
,2015-04-22
[6]
RET阻害剤として有用な化合物[ja]
[P].
日本专利
:JP2020516636A
,2020-06-11
[7]
RET阻害剤として有用な化合物[ja]
[P].
日本专利
:JP7277376B2
,2023-05-18
[8]
RET阻害剤として有用な化合物[ja]
[P].
日本专利
:JP7536949B2
,2024-08-20
[9]
ALCAT1の阻害剤として有用な化合物[ja]
[P].
日本专利
:JP2020515646A
,2020-05-28
[10]
ALCAT1の阻害剤として有用な化合物[ja]
[P].
日本专利
:JP7208649B2
,2023-01-19
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