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無電解めっき前処理剤、それを用いる無電解めっき方法及び無電解めっき物[ja]
被引:0
申请号
:
JP20120506946
申请日
:
2011-03-14
公开(公告)号
:
JPWO2011118439A1
公开(公告)日
:
2013-07-04
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
C23C18/18
IPC分类号
:
C23C18/28
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
無電解めっき方法及び金属めっき物[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2004108986A1
,2006-07-20
[2]
無電解めっき液[ja]
[P].
日本专利
:JP7686129B1
,2025-05-30
[3]
無電解めっき浴[ja]
[P].
日本专利
:JP6572376B1
,2019-09-11
[4]
無電解金めっき液および無電解金めっき方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2002022909A1
,2004-02-26
[5]
無電解白金めっき液および無電解白金めっき方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6201029B1
,2017-09-20
[6]
電解めっき液用添加剤、該電解めっき液用添加剤を含有する電解めっき液及び該電解めっき液を用いた電解めっき方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2019044651A1
,2020-11-19
[7]
無電解めっき用触媒付与液、触媒付与方法、及び、無電解めっき方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7573322B1
,2024-10-25
[8]
無電解めっき用触媒付与液、触媒付与方法、及び、無電解めっき方法[ja]
[P].
KAJIYAMA ERI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
OKUNO CHEM IND CO
OKUNO CHEM IND CO
KAJIYAMA ERI
;
SETO HIROO
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
OKUNO CHEM IND CO
OKUNO CHEM IND CO
SETO HIROO
;
HASEGAWA NORIHIKO
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
OKUNO CHEM IND CO
OKUNO CHEM IND CO
HASEGAWA NORIHIKO
;
MAEDA YOSHIAKI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
OKUNO CHEM IND CO
OKUNO CHEM IND CO
MAEDA YOSHIAKI
;
HASHIZUME YOSHI
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
OKUNO CHEM IND CO
OKUNO CHEM IND CO
HASHIZUME YOSHI
;
NAGAO TOSHIMITSU
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
OKUNO CHEM IND CO
OKUNO CHEM IND CO
NAGAO TOSHIMITSU
.
日本专利
:JP2025074825A
,2025-05-14
[9]
無電解銅めっき浴[ja]
[P].
日本专利
:JP6733016B1
,2020-07-29
[10]
無電解金めっき液[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2004108987A1
,2006-07-20
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