創傷治療と洗浄のためのシステム及び方法[ja]

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申请号
JP20200532868
申请日
2018-08-27
公开(公告)号
JP2020531590A
公开(公告)日
2020-11-05
发明(设计)人
申请人
申请人地址
IPC主分类号
A61K45/00
IPC分类号
A01N43/40 A01N47/44 A01N59/08 A01N59/16 A01N59/20 A01P1/00 A01P3/00 A61K9/08 A61K31/4425 A61K31/7012 A61K33/00 A61K47/22 A61K47/42 A61L2/18 A61P17/00 A61P17/02
代理机构
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共 50 条
[1]
創傷治療システム[ja] [P]. 
日本专利 :JP2021530260A ,2021-11-11
[2]
銅露出基板の洗浄方法および洗浄システム[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2014178289A1 ,2017-02-23
[3]
創傷治癒及び瘢痕予防のための方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP2019510820A ,2019-04-18
[4]
プラズマベースの浄化のためのシステム及び方法[ja] [P]. 
STEPHEN B CRONIN ;
TOM HUISKAMP ;
ALEC NYSTROM ;
WILLIAM SCHROEDER ;
SRIRAM SUBRAMANIAN .
日本专利 :JP2025063060A ,2025-04-15
[5]
創傷、特に慢性創傷の処置のための分子標的[ja] [P]. 
日本专利 :JP2016527290A ,2016-09-08
[6]
検出のためのシステム[ja] [P]. 
日本专利 :JP2020510417A ,2020-04-09
[8]
創傷治癒のための方法および組成物[ja] [P]. 
日本专利 :JP2016522801A ,2016-08-04
[9]
[10]
分析種の検出のための方法およびシステム[ja] [P]. 
日本专利 :JP2017534064A ,2017-11-16