マイクロ波照射装置、及び、マイクロ波照射方法[ja]

被引:0
申请号
JP20150070510
申请日
2015-03-31
公开(公告)号
JP6426046B2
公开(公告)日
2018-11-21
发明(设计)人
申请人
申请人地址
IPC主分类号
H05B6/74
IPC分类号
C04B37/00 H05B6/64
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
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共 50 条
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[2]
マイクロ波照射装置、マイクロ波照射装置搭載体、及びマイクロ波照射方法[ja] [P]. 
HATTORI WATARU ;
ABE TATSUYA ;
SHIBATA YUGO ;
SATO DAIKI ;
UJI JUNICHI ;
ABE TAKAYUKI ;
HIDA MASAHITO .
日本专利 :JP2023177627A ,2023-12-14
[3]
マイクロ波照射装置[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2015199005A1 ,2017-04-20
[4]
マイクロ波照射装置[ja] [P]. 
日本专利 :JP3229743U ,2020-12-17
[5]
マイクロ波照射装置[ja] [P]. 
日本专利 :JP6533783B2 ,2019-06-19
[6]
マイクロ波照射装置[ja] [P]. 
日本专利 :JP5662163B2 ,2015-01-28
[7]
マイクロ波照射装置[ja] [P]. 
日本专利 :JP7711535B2 ,2025-07-23
[8]
マイクロ波照射装置[ja] [P]. 
日本专利 :JP5982758B2 ,2016-08-31
[9]
マイクロ波照射装置[ja] [P]. 
日本专利 :JP5820661B2 ,2015-11-24
[10]